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Plasma Chemistry And Plasma Processing期刊
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Plasma Chemistry And Plasma Processing

SCIE

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》创刊于1981年，是一本物理与天体物理国际学术期刊，出版语言为English，年发文量123。预计审稿周期约 较慢,6-12周 ，近三年曾被列入预警期刊名单。

中科院 3区
JCR Q2
Citescore 5.9
TOP期刊 否
ISSN: 0272-4324
出版地区: UNITED STATES
E-ISSN: 1572-8986
出版周期: Quarterly
出版商: Springer US
创刊时间: 1981年
国际简称: PLASMA CHEM PLASMA P
出版语言: English
研究方向: 工程技术-工程：化工
中文名称: 等离子化学和等离子处理

Plasma Chemistry And Plasma Processing杂志简介

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》由Springer US出版社出版，是工程：化工领域的国际权威期刊。自1981年创刊以来，该刊始终致力于发表物理与天体物理领域的原创性、前瞻性研究成果，尤其关注物理与天体物理领域的理论、政策与实践。该刊被SCIE数据库收录，在JCR学科，按JIF指标学科分区学科“ENGINEERING, CHEMICAL”中位于Q3区；“PHYSICS, APPLIED”中位于Q2区；“PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS”中位于Q2区；按JCI指标学科分区学科“ENGINEERING, CHEMICAL”中位于Q2区；“PHYSICS, APPLIED”中位于Q2区；“PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS”中位于Q2区；中国科学院期刊分区为大类物理与天体物理3区，小类工程：化工3区。此外，在CiteScore学科分类中，该刊在“Condensed Matter Physics”小类中位列Q1区，排名108 / 434，显示出在工程：化工领域的突出影响力。

作为一本非开放获取期刊，《Plasma Chemistry And Plasma Processing》2023年发文量在123篇，研究类论文占比为95.12%。期刊最新影响因子为2.6 ，CiteScore为5.9，学术影响力持续稳健。该刊面向全球研究者，为探讨工程：化工领域提供了高水平的学术交流平台。

WOS期刊JCR分区（2023-2024年最新版）

按JIF指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q3 91 / 170

46.8%
PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 81 / 179

55%
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 12 / 40

71.3%
按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q2 55 / 171

68.13%
PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 69 / 179

61.73%
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 17 / 40

58.75%

CiteScore（2025年最新版）

CiteScore数据趋势图

  • CiteScore：5.9
  • SJR：0.48
  • SNIP：0.912
学科 分区 排名 百分位
大类：Physics and Astronomy 小类：Condensed Matter Physics Q1 108 / 434

75%
大类：Physics and Astronomy 小类：Surfaces, Coatings and Films Q2 34 / 132

74%
大类：Physics and Astronomy 小类：General Chemical Engineering Q2 79 / 273

71%
大类：Physics and Astronomy 小类：General Chemistry Q2 119 / 408

70%

Plasma Chemistry And Plasma Processing中国科学院期刊分区

中国科学院期刊分区趋势图

中国科学院期刊分区 （2023年12月升级版）

大类学科 小类学科 Top期刊 综述期刊
物理与天体物理
3区
ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：应用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流体与等离子体
3区 3区 3区
否 否

中国科学院期刊分区 （2022年12月升级版）

大类学科 小类学科 Top期刊 综述期刊
工程技术
3区
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流体与等离子体 ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：应用
2区 3区 3区
否 否

中国科学院期刊分区 （2021年12月旧的升级版）

大类学科 小类学科 Top期刊 综述期刊
工程技术
3区
ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：应用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流体与等离子体
3区 3区 3区
否 否

Plasma Chemistry And Plasma Processing高引用文章

  • Effect of Cold Atmospheric Pressure Plasma on Maize Seeds: Enhancement of Seedlings Growth and Surface Microorganisms Inactivation

    引用次数：23

  • Cold Atmospheric Pressure Plasma Can Induce Adaptive Response in Pea Seeds

    引用次数：14

  • Inactivation of Shewanella putrefaciens by Plasma Activated Water

    引用次数：13

  • Seed Priming with Non-thermal Plasma Modified Plant Reactions to Selenium or Zinc Oxide Nanoparticles: Cold Plasma as a Novel Emerging Tool for Plant Science

    引用次数：13

  • Stimulation of the Germination and Early Growth of Tomato Seeds by Non-thermal Plasma

    引用次数：12

  • Evaluation of Oxidative Species in Gaseous and Liquid Phase Generated by Mini-Gliding Arc Discharge

    引用次数：12

  • Non-thermal Plasma Induced Expression of Heat Shock Factor A4A and Improved Wheat (Triticum aestivum L.) Growth and Resistance Against Salt Stress

    引用次数：11

  • Effect of the Magnetic Field on the Magnetically Stabilized Gliding Arc Discharge and Its Application in the Preparation of Carbon Black Nanoparticles

    引用次数：9

  • On the Possibilities of Straightforward Characterization of Plasma Activated Water

    引用次数：8

  • Plasma Activated Organic Fertilizer

    引用次数：8

Plasma Chemistry And Plasma Processing学术指标

年份 影响因子 年发文量 引文指标 自引率 CiteScore
2023 2.6 - 123 - 0.65 - 19.2 - 5.9 -
2022 3.6 - 85 - 0.73 - 8.3 - 6.2 -
2021 3.337 - 74 - 0.75 - 5.7 - 5.4 -
2020 3.148 - 119 - 0.72 - 11.3 - 4.6 -
2019 2.178 - 91 - 0.75 - 12.7 - 5.4 -
2018 2.768 - 78 - 0.75 - 8.9 - 4.7 -

国家/地区发文量

国家/地区 发文量
CHINA MAINLAND 70
Russia 37
USA 29
France 26
GERMANY (FED REP GER) 21
Czech Republic 15
Iran 14
India 12
Japan 12
Poland 11
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