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Journal Of Photopolymer Science And Technology期刊
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Journal Of Photopolymer Science And Technology

SCIE

《Journal Of Photopolymer Science And Technology》创刊于1988年，是一本化学国际学术期刊，出版语言为English，年发文量0。预计审稿周期约 偏慢,4-8周 ，近三年曾被列入预警期刊名单。

中科院 4区
JCR Q4
Citescore 1.5
TOP期刊 否
ISSN: 0914-9244
出版地区: JAPAN
E-ISSN: 1349-6336
出版周期: Semiannual
出版商: Tokai University
创刊时间: 1988年
国际简称: J PHOTOPOLYM SCI TEC
出版语言: English
研究方向: 化学-高分子科学
中文名称: 光聚合物科学与技术杂志

Journal Of Photopolymer Science And Technology杂志简介

《Journal Of Photopolymer Science And Technology》由Tokai University出版社出版，是高分子科学领域的国际权威期刊。自1988年创刊以来，该刊始终致力于发表化学领域的原创性、前瞻性研究成果，尤其关注化学领域的理论、政策与实践。该刊被SCIE数据库收录，在JCR学科，按JIF指标学科分区学科“POLYMER SCIENCE”中位于Q4区；按JCI指标学科分区学科“POLYMER SCIENCE”中位于Q4区；中国科学院期刊分区为大类化学4区，小类高分子科学4区。此外，在CiteScore学科分类中，该刊在“Polymers and Plastics”小类中位列Q3区，排名117 / 161，显示出在高分子科学领域的突出影响力。

作为一本非开放获取期刊，《Journal Of Photopolymer Science And Technology》2023年发文量在0篇，研究类论文占比为0.00%。期刊最新影响因子为0.4 ，CiteScore为1.5，学术影响力持续稳健。该刊面向全球研究者，为探讨高分子科学领域提供了高水平的学术交流平台。

WOS期刊JCR分区（2023-2024年最新版）

按JIF指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
POLYMER SCIENCE SCIE Q4 89 / 94

5.9%
按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
POLYMER SCIENCE SCIE Q4 90 / 94

4.79%

CiteScore（2025年最新版）

CiteScore数据趋势图

  • CiteScore：1.5
  • SJR：0.181
  • SNIP：0.507
学科 分区 排名 百分位
大类：Materials Science 小类：Polymers and Plastics Q3 117 / 161

27%
大类：Materials Science 小类：Materials Chemistry Q3 234 / 317

26%
大类：Materials Science 小类：Organic Chemistry Q4 177 / 211

16%

Journal Of Photopolymer Science And Technology中国科学院期刊分区

中国科学院期刊分区趋势图

中国科学院期刊分区 （2023年12月升级版）

大类学科 小类学科 Top期刊 综述期刊
化学
4区
POLYMER SCIENCE 高分子科学
4区
否 否

中国科学院期刊分区 （2022年12月升级版）

大类学科 小类学科 Top期刊 综述期刊
化学
4区
POLYMER SCIENCE 高分子科学
4区
否 否

中国科学院期刊分区 （2021年12月旧的升级版）

大类学科 小类学科 Top期刊 综述期刊
化学
4区
POLYMER SCIENCE 高分子科学
4区
否 否

Journal Of Photopolymer Science And Technology高引用文章

  • Dual-tone Application of a Tin-Oxo Cage Photoresist Under E-beam and EUV Exposure

    引用次数：6

  • Visible Sensitization for Non-Fullerene Polymer Solar Cells Using a Wide Bandgap Polymer

    引用次数：5

  • Bio-mimic Motion of Elastic Material Dispersed with Hard-magnetic Particles

    引用次数：5

  • The Role of Underlayers in EUVL

    引用次数：4

  • Synthesis of Liquid Crystalline Block Copolymers Self-assembled into Sub-5 nm Microdomains

    引用次数：4

  • Fluorescent Polystyrene Latex Nanoparticles for NIR-II in vivo Imaging

    引用次数：3

  • Durability Evaluation of Antireflection Structure Replica Mold using High Hardness and Antifouling UV-curable Resin

    引用次数：3

  • 3D Printing System of Magnetic Anisotropy for Artificial Cilia

    引用次数：3

  • Laser Direct Writing of Microstructure on Graphene Oxide/Metal Oxide Hybrid Film

    引用次数：3

  • EUV Lithography Technology for High-volume Production of Semiconductor Devices

    引用次数：3

Journal Of Photopolymer Science And Technology学术指标

年份 影响因子 年发文量 引文指标 自引率 CiteScore
2023 0.4 - 0 - 0.11 - 0 - 1.5 -
2022 0.8 - 59 - 0.14 - 25 - 1.5 -
2021 0.738 - 85 - 0.17 - 29.7 - 1.4 -
2020 0.518 - 0 - 0.16 - 0 - 1.4 -
2019 0.909 - 132 - 0.25 - 38.8 - 1.5 -
2018 0.934 - 121 - 0.27 - 35.2 - 1.5 -

国家/地区发文量

国家/地区 发文量
Japan 215
CHINA MAINLAND 14
USA 12
Belgium 8
South Korea 7
Malaysia 5
Australia 3
GERMANY (FED REP GER) 3
Netherlands 3
Switzerland 3

机构发文量统计

机构 发文量
OSAKA UNIVERSITY 20
TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE 18
OSAKA PREFECTURE UNIVERSITY 16
UNIVERSITY OF HYOGO 11
LITHO TECH JAPAN CORP 10
OSAKA CITY UNIVERSITY 10
NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE & TECHNOLOGY (AIST) 9
RITSUMEIKAN UNIVERSITY 9
TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY 9
IMEC 8
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